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Hf-Based High-K Dielectrics eBook

Process Development, Performance Characterization, And Reliability

de Young-Hee Kim e Jack C. Lee
Livro eBook
idioma: inglês
Editor: Springer International Publishing, junho de 2022 ‧
33,11€
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DISPONIBILIDADE IMEDIATA
Ebook para ADE
Hard breakdown and soft breakdown, particularly the Weibull slopes, were studied under constant voltage stress. The origin of soft breakdown (first breakdown) was studied and the results suggested that the soft breakdown may be due to one layer breakdown in the bilayer structure (HfO2/SiO2: 4 nm/4 nm).

Hf-Based High-K Dielectrics

Process Development, Performance Characterization, And Reliability

de Young-Hee Kim e Jack C. Lee

Propriedade Descrição
ISBN: 9783031025525
Editor: Springer International Publishing
Data de Lançamento: junho de 2022
Idioma: Inglês
Páginas: 92
Tipo de produto: eBook
Formato e Compatibilidade: PDF para ADE
Coleção: Synthesis Lectures On Solid State Materials And Devices
Classificação Temática: eBooks em Inglês > Engenharia > Engenharia Geral
eBooks em Inglês > Engenharia > Eletricidade e Energia
EAN: 9783031025525

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