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Lithography Process Control
idioma: inglês
Editor:
SPIE PRESS, fevereiro de 1999 ‧
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SINOPSE
This text is intended to be a self-contained tutorial on lithography process control. It works as an introduction to those entering the field, and as a reference for the experienced lithography engineer. Topics covered include linewidth control, overlay, and yield.
DETALHES
| Propriedade | Descrição |
|---|---|
| ISBN: | 9780819430526 |
| Editor: | SPIE PRESS |
| Data de Lançamento: | fevereiro de 1999 |
| Idioma: | Inglês |
| Dimensões: | 179 x 230 x 15 mm |
| Encadernação: | Capa mole |
| Páginas: | 194 |
| Tipo de produto: | Livro |
| Coleção: | Spie Press |
| Classificação Temática: |
Livros em Inglês
>
Arte
>
Fotografia
|
| EAN: | 9780819430526 |
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