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Research On Chemical Mechanical Polishing Mechanism Of Novel Diffusion Barrier Ru For Cu Interconnect eBook

de Jie Cheng
idioma: inglês
Editor: Springer Nature Singapore, setembro de 2017 ‧
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Ebook para ADE
This thesis addresses selected unsolved problems in the chemical mechanical polishing process (CMP) for integrated circuits using ruthenium (Ru) as a novel barrier layer material.

Research On Chemical Mechanical Polishing Mechanism Of Novel Diffusion Barrier Ru For Cu Interconnect

de Jie Cheng

Propriedade Descrição
ISBN: 9789811061653
Editor: Springer Nature Singapore
Data de Lançamento: setembro de 2017
Idioma: Inglês
Tipo de produto: eBook
Formato e Compatibilidade:
Coleção: Springer Theses
Classificação Temática: eBooks em Inglês > Engenharia > Engenharia Geral
EAN: 9789811061653
Acessibilidade: Ver características de acessibilidade indicadas pelo editor