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Computational Lithography eBook

de Xu Ma e Gonzalo R. Arce
idioma: inglês
Editor: WILEY, julho de 2010 ‧
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DISPONIBILIDADE IMEDIATA
Ebook para ADE
This is the first book to address the optimization of resolution enhancement techniques in optical lithography. It provides an in-depth discussion of RET tools that use model-based mathematical optimization approaches.

Computational Lithography

de Xu Ma e Gonzalo R. Arce

Propriedade Descrição
ISBN: 9780470618936
Editor: WILEY
Data de Lançamento: julho de 2010
Idioma: Inglês
Tipo de produto: eBook
Formato e Compatibilidade: PDF para ADE
Coleção: Wiley Series In Pure And Applied Optics
Classificação Temática: eBooks em Inglês > Engenharia > Eletricidade e Energia
EAN: 9780470618936