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Computational Lithography

de Xu Ma e Gonzalo R. Arce
idioma: inglês
Editor: JOHN WILEY & SONS INC, agosto de 2010 ‧
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This is the first book to address the optimization of resolution enhancement techniques in optical lithography. It provides an in-depth discussion of RET tools that use model-based mathematical optimization approaches.

Computational Lithography

de Xu Ma e Gonzalo R. Arce

Propriedade Descrição
ISBN: 9780470596975
Editor: JOHN WILEY & SONS INC
Data de Lançamento: agosto de 2010
Idioma: Inglês
Encadernação: Capa dura
Páginas: 256
Tipo de produto: Livro
Coleção: Wiley Series In Pure And Applied Optics
Classificação Temática: Livros em Inglês > Engenharia > Eletricidade e Energia
Livros em Inglês > Outros
EAN: 9780470596975