10% de desconto
Livro eBook
idioma: inglês
Editor: TAYLOR & FRANCIS LTD, Janeiro de 2007 ‧
310,93€
10% DESCONTO CARTÃO
portes grátis
Venda o seu livro
Brings together materials science, manufacturing processes, and research and developments of SiGe and strained-Si. This book contains the information on strain engineering in silicon CMOS and strained-Si-based integrated circuit technology and strain-engineered MOSFETs. It presents various aspects of silicon heterostructure materials and devices.

Strained-Si Heterostructure Field Effect Devices

de L.K Bera, S (University Of Newcastle, Uk) Chattopadhyay e C.K (Indian Institute Of Technology, Kharagpur, India) Maiti

Propriedade Descrição
ISBN: 9780750309936
Editor: TAYLOR & FRANCIS LTD
Data de Lançamento: Janeiro de 2007
Idioma: Inglês
Dimensões: 156 x 235 x 28 mm
Encadernação: Capa dura
Páginas: 436
Tipo de produto: Livro
Coleção: Series In Materials Science And Engineering
Classificação Temática: Livros em Inglês > Engenharia > Eletricidade e Energia
EAN: 9780750309936