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Optical And Euv Lithography

A Modeling Perspective

de Andreas Erdmann
idioma: inglês
Editor: SPIE PRESS, abril de 2021 ‧
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Introduces interested students with backgrounds in physics, optics, computational engineering, mathematics, chemistry, material science, nanotechnology, and other areas to the fascinating field of lithographic techniques for nanofabrication. It should also help senior engineers and managers expand their knowledge of alternative methods and applications.

Optical And Euv Lithography

A Modeling Perspective

de Andreas Erdmann

Propriedade Descrição
ISBN: 9781510639010
Editor: SPIE PRESS
Data de Lançamento: abril de 2021
Idioma: Inglês
Dimensões: 255 x 178 x 24 mm
Encadernação: Capa mole
Páginas: 374
Tipo de produto: Livro
Coleção: Press Monographs
Classificação Temática: Livros em Inglês > Engenharia > Engenharia Geral
Livros em Inglês > Outros
EAN: 9781510639010