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Machine Learning-Based Modelling In Atomic Layer Deposition Processes

de Tien-Chien (University Of Johannesburg, South Africa) Jen, Sina Karimzadeh e Oluwatobi Adeleke
idioma: inglês
Editor: TAYLOR & FRANCIS LTD, maio de 2025 ‧
71,64€
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This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Machine Learning-Based Modelling In Atomic Layer Deposition Processes

de Tien-Chien (University Of Johannesburg, South Africa) Jen, Sina Karimzadeh e Oluwatobi Adeleke

Propriedade Descrição
ISBN: 9781032386737
Editor: TAYLOR & FRANCIS LTD
Data de Lançamento: maio de 2025
Idioma: Inglês
Dimensões: 156 x 234 x 20 mm
Encadernação: Capa mole
Páginas: 354
Tipo de produto: Livro
Coleção: Emerging Materials And Technologies
Classificação Temática: Livros em Inglês > Engenharia > Engenharia Geral
EAN: 9781032386737

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