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Euv Sources For Lithography
Euv Sources For Lithography
idioma: inglês
Editor:
SPIE PRESS, fevereiro de 2006 ‧
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SINOPSE
An authoritative reference book on EUV source technology. Topics range from a state-of-the-art overview and in-depth explanation of EUV source requirements, to fundamental atomic data and theoretical models of EUV sources based on discharge-produced plasmas and laser-produced plasmas, to a description of prominent DPP and LPP designs and other technologies for producing EUV radiation.
DETALHES
| Propriedade | Descrição |
|---|---|
| ISBN: | 9780819496256 |
| Editor: | SPIE PRESS |
| Data de Lançamento: | fevereiro de 2006 |
| Idioma: | Inglês |
| Dimensões: | 152 x 229 x 20 mm |
| Encadernação: | Capa mole |
| Páginas: | 1094 |
| Tipo de produto: | Livro |
| Coleção: | Press Monograph |
| Classificação Temática: |
Livros em Inglês
>
Engenharia
>
Engenharia Geral
|
| EAN: | 9780819496256 |
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