Euv Sources For Lithography

de Vivek Bakshi
idioma: inglês
Editor: SPIE PRESS, fevereiro de 2006 ‧
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An authoritative reference book on EUV source technology. Topics range from a state-of-the-art overview and in-depth explanation of EUV source requirements, to fundamental atomic data and theoretical models of EUV sources based on discharge-produced plasmas and laser-produced plasmas, to a description of prominent DPP and LPP designs and other technologies for producing EUV radiation.

Euv Sources For Lithography

de Vivek Bakshi

Propriedade Descrição
ISBN: 9780819496256
Editor: SPIE PRESS
Data de Lançamento: fevereiro de 2006
Idioma: Inglês
Dimensões: 152 x 229 x 20 mm
Encadernação: Capa mole
Páginas: 1094
Tipo de produto: Livro
Coleção: Press Monograph
Classificação Temática: Livros em Inglês > Engenharia > Engenharia Geral
EAN: 9780819496256