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Atomic Layer Deposition

Principles, Characteristics, And Nanotechnology Applications

de David Cameron, Marja-Leena Kaariainen, Tommi Kaariainen e Arthur Sherman
idioma: inglês
Editor: JOHN WILEY & SONS INC, junho de 2013 ‧
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Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective.

Atomic Layer Deposition

Principles, Characteristics, And Nanotechnology Applications

de David Cameron, Marja-Leena Kaariainen, Tommi Kaariainen e Arthur Sherman

Propriedade Descrição
ISBN: 9781118062777
Editor: JOHN WILEY & SONS INC
Data de Lançamento: junho de 2013
Idioma: Inglês
Encadernação: Capa dura
Páginas: 272
Tipo de produto: Livro
Classificação Temática: Livros em Inglês > Engenharia > Eletricidade e Energia
EAN: 9781118062777