Plasma Etching Processes For Interconnect Realization In Vlsi

de Nicolas Posseme
idioma: inglês
Editor: ISTE Press Ltd - Elsevier Inc, abril de 2015 ‧
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This is the first of two books presenting the challenges and future prospects of plasma etching processes for microelectronics, reviewing the past, present and future issues of etching processes in order to improve the understanding of these issues through innovative solutions.

Plasma Etching Processes For Interconnect Realization In Vlsi

de Nicolas Posseme

Propriedade Descrição
ISBN: 9781785480157
Editor: ISTE Press Ltd - Elsevier Inc
Data de Lançamento: abril de 2015
Idioma: Inglês
Dimensões: 152 x 229 x 8 mm
Encadernação: Capa dura
Páginas: 128
Tipo de produto: Livro
Coleção: New Metaphysics
Classificação Temática: Livros em Inglês > Engenharia > Eletricidade e Energia
EAN: 9781785480157

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