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Plasma Etching Processes For Interconnect Realization In Vlsi
idioma: inglês
Editor:
ISTE Press Ltd - Elsevier Inc, abril de 2015 ‧
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SINOPSE
This is the first of two books presenting the challenges and future prospects of plasma etching processes for microelectronics, reviewing the past, present and future issues of etching processes in order to improve the understanding of these issues through innovative solutions.
DETALHES
| Propriedade | Descrição |
|---|---|
| ISBN: | 9781785480157 |
| Editor: | ISTE Press Ltd - Elsevier Inc |
| Data de Lançamento: | abril de 2015 |
| Idioma: | Inglês |
| Dimensões: | 152 x 229 x 8 mm |
| Encadernação: | Capa dura |
| Páginas: | 128 |
| Tipo de produto: | Livro |
| Coleção: | New Metaphysics |
| Classificação Temática: |
Livros em Inglês
>
Engenharia
>
Eletricidade e Energia
|
| EAN: | 9781785480157 |
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